Наименование | Проведение контроля операций подготовки и нанесения наноструктурированного PVD-покрытия |
|
|
|
|
Происхождение трудовой функции | Оригинал |
|
Заимствовано из оригинала |
|
|
|
Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта |
Трудовые действия | Проведение контрольной очистки и активации поверхности подложки (рабочей поверхности объекта) Проведение контроля операции мойки подложки (рабочей поверхности объекта) Контроль качества подложки (рабочей поверхности объекта), на которую необходимо нанести наноструктурированное PVD-покрытие Выдача рекомендаций операторам (наладчикам) для корректировки режимов работы оборудования на участке PVD-покрытий Выборочный контроль подложки (рабочей поверхности объекта) на твердость Контроль качества поверхности контакта PVD-покрытия c подложкой Контроль качества поверхности объекта после нанесения наноструктурированного PVD-покрытия Мониторинг соблюдения последовательности операций нанесения наноструктурированного PVD-покрытия |
Необходимые умения | Применять методы контроля операций подготовки и нанесения наноструктурированного PVD-покрытия Применять средства контроля операций подготовки и нанесения наноструктурированного PVD-покрытия Применять статистические методы контроля - контрольные карты Соблюдать правила контроля операций подготовки и нанесения наноструктурированного PVD-покрытия |
Необходимые знания | Основы физических и химических методов очистки подложки (рабочей поверхности объекта), их преимущества и недостатки Методы очистки подложки (рабочей поверхности объекта): механическое удаление частиц загрязнителя потоком жидкости или газа, растворение в воде, химическая реакция Регламент подготовки подложки (рабочей поверхности объекта) к нанесению наноструктурированного PVD-покрытия Условия нанесения наноструктурированных PVD-покрытий - зависимые и независимые переменные Выборочный контроль объекта на твердость по Виккерсу или Роквеллу (до нанесения покрытия) Входные факторы (условия) процессов нанесения покрытия: напряжение на объекте; ток дуги, мишени или накала катода; материал катода, мишени или анода; давление газа в камере; состав реакционного газа; расстояние между электродами в зависимости от вида и требований технологического процесса Показатели достоверности и точности контроля операций нанесения наноструктурированных PVD-покрытий Номенклатура диагностических параметров и их характеристика (номинальные, допускаемые значения, точки ввода, точки контроля) PVD-покрытий Материалы, применяемые для формирования наноструктурированных PVD-покрытий, и требования, предъявляемые к ним Классификация PVD-покрытий по составу (одноэлементные, многоэлементные, многокомпонентные, композиционные) и строению (однослойные и многослойные) Правила эксплуатации установок для нанесения наноструктурированных PVD-покрытий Требования системы экологического менеджмента и системы менеджмента производственной безопасности и здоровья |
Другие характеристики |