| Наименование | Проведение оптимизации параметров топологии в соответствии с техническим заданием |
|
|
|
|
| Происхождение трудовой функции | Оригинал |
|
Заимствовано из оригинала |
|
|
|
| Код оригинала | Регистрационный номер профессионального стандарта |
| Трудовые действия | Проведение верификации параметров исходной топологии (тональность, критичные размеры, габаритные размеры поля фотошаблона, координаты центра, наличие маркировки, метки совмещения, метки для проекционной литографии) на соответствие техническому заданию и правилам проектирования Проведение обработки топологии фотошаблона в соответствии с требованиями технического задания (операции позиционирования слоя, изменение тональности слоя, коррекции размеров для каждого слоя, коррекции эффектов оптической близости, коррекции фазового сдвига для слоя с применением фазосдвигающих масок) |
| Необходимые умения | Проверять ключевые параметры топологии (тональность, критичные элементы, габаритные размеры, метки совмещения, метки проекционной литографии) на соответствие техническому заданию и правилам проектирования Проводить конвертацию топологических данных во внутренний формат оборудования Владеть методологией коррекции оптических эффектов близости, контроля линейных размеров топологических элементов Проводить обработку топологии фотошаблонов в соответствии с требованиями технического задания Создавать служебные элементы фотошаблонов: метки совмещения, мультипликации, штрих-код, текстовые метки Проводить полный цикл автоматизированного проектирования фотошаблона |
| Необходимые знания | Технический английский язык Оптика - дифракция, интерференция Процессы электронно-лучевой и оптической литографии Целевые системы автоматизированного проектирования Маршрут разработки и проектирования фотошаблонов Методики верификации фотошаблонов Возможности скриптовых языков Базовые маршруты разработки и верификации сверхбольших интегральных схем, в том числе систем на кристалле |
| Другие характеристики |