Оператор прецизионной фотолитографии изделий микроэлектроники
УТВЕРЖДЕН
приказом Министерства
труда и социальной защиты Российской Федерации
от 21.03.2022 № 147н

Оператор прецизионной фотолитографии изделий микроэлектроники


1526


Регистрационный номер
Общие сведения
Выполнение процессов фотолитографии при производстве изделий микроэлектроники


40.236

(наименование вида профессиональной деятельности)


Код

Основная цель вида профессиональной деятельности:
Формирование на поверхности пластин фоторезистивной маски для создания локальных областей в изделиях микроэлектроники

Группа занятий:

7549

Квалифицированные рабочие промышленности и рабочие родственных занятий, не входящие в другие группы

8189

Операторы промышленных установок и машин, не входящие в другие группы

(код ОКЗ)

(наименование)

(код ОКЗ)

(наименование)

Отнесение к видам экономической деятельности:

26.11

Производство элементов электронной аппаратуры

(код ОКВЭД)

(наименование вида экономической деятельности)


Описание трудовых функций, входящих в профессиональный стандарт (функциональная карта вида профессиональной деятельности)

Обобщенные трудовые функции
Трудовые функции
код
наименование
уровень квалификации
наименование
код
уровень (подуровень) квалификации

A


Проведение технологических процессов формирования фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании


4


Проведение технологического процесса нанесения слоя фоторезиста на поверхность пластин при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании

A/01.4

4

Совмещение и экспонирование фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании

A/02.4

4

Проявление фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании

A/03.4

4

B


Проведение технологических процессов формирования фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках


4


Проведение технологического процесса нанесения слоя фоторезиста, антиотражающего покрытия при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках

B/01.4

4

Совмещение и экспонирование фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках

B/02.4

4

Проведение технологического процесса проявления фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках

B/03.4

4

C


Контроль технологических процессов прецизионной фотолитографии при изготовлении изделий микроэлектроники и регулировка параметров при выявлении несоответствий


4


Контроль параметров фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники

C/01.4

4

Выполнение действий при выявлении технологических несоответствий, возникающих при проведении процессов фотолитографии при изготовлении изделий микроэлектроники

C/02.4

4

Сведения об организациях – разработчиках профессионального стандарта

Ответственная организация-разработчик

Фонд инфраструктурных и образовательных программ, город Москва
Генеральный директор Титов Руслан Вадимович
Наименования организаций-разработчиков
1.
Акционерное общество «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники», город Москва, город Зеленоград
2.
Некоммерческое партнерство «Межотраслевое объединение наноиндустрии», город Москва
3.
Акционерное общество «Микрон», город Москва, город Зеленоград
4.
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Российская академия народного хозяйства и государственной службы при Президенте Российской Федерации», город Москва
Совет по профессиональным квалификациям
Никакой
 

Возврат к списку